ニュース | ニュース&イベント | NECエレクトロニクス

新生産ラインは、現在２００ミリメートルウエハーで生産を行っているNEC山形の前工程工場内にある拡張用空きフロアへ、クリーンルーム設備および３００ミリメートルウエハー対応の生産設備を導入して構築する予定であります。ライン完成時には、３００ミリメートルウエハーを月産約４千枚処理することが可能となり、これは２００ミリウエハー換算では月産約１万枚の処理能力に相当いたします。

新ラインでは、現在、需要が急増しつつある線幅１３０ナノメートル(注)プロセスの製品と、最先端の９０ナノメートルプロセスを用いた製品の生産を行う予定であり、ライン構築に関する設備投資金額は約６００億円を予定しております。ライン建設のスケジュールは、クリーンルームの工事を年内に開始し、その後、設備搬入、試運転、製品の試作・評価を経て、２００４年中に顧客向けシステムＬＳＩの量産投入を開始する予定であります。

NECエレクトロニクスが注力している携帯電話やデジタル家電分野では、電池駆動での長時間利用に適した低消費電力システムＬＳＩへのニーズが高まっており、低消費電力化に適した先端の製造プロセスを用いた製品への需要が急増しております。NECエレクトロニクスでは、その需要増に速やかに対応する生産拠点として、１３０ナノメートルプロセスでの量産に実績があり、かつ、既存工場の建屋内にまとまった拡張用フロアが確保されているNEC山形内に、新ラインを構築することにしたものであります。

NEC山形の拡張用フロアには、当初、２００ミリメートルウエハー対応の設備を導入する予定でしたが、３００ミリメートルウエハー対応の生産設備の性能と完成度が上がって投資効率が大幅に改善されたこと、製品歩留りについても２００ミリメートル対応ラインと同等の歩留りが達成できる技術的な目処が立ったこと、などの理由から導入設備を２００ミリメートルから３００ミリメートルへと切り替えることにいたしました。

システムＬＳＩ事業においては、顧客のシステム毎にＬＳＩの設計を行う場合が多く、システムへの採用決定から、実際にＬＳＩが出荷されるまでに年単位の時間がかかるケースが増えております。したがって、ＬＳＩの採用決定の状況に応じて段階的にタイミング良く設備投資を行えば、顧客のシステム製品の需要が立ち上がる時期に合わせて生産能力を用意することができ、高い設備稼働率を維持することによって生産コストを低減することが可能となります。

NECエレクトロニクスはシステムＬＳＩの専業メーカーとして、顧客ニーズに応じた最適ソリューションの提供を目指していることから、設備投資についても顧客満足を常に意識して、ＬＳＩの採用状況に応じたタイムリーな投資の意思決定を行ってまいります。

NECエレクトロニクス、NEC山形および新生産ラインの概要は別紙をご参照ください。

以上

(注)	ナノメートルは１０億分の１メートル

ニュースリリースに掲載されている情報は、発表日現在の情報です。
その後予告なしに変更されることがございますので、あらかじめご承知ください。


ご利用にあたって個人情報保護について RSS	© 1995-2008 NEC Electronics Corporation