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最先端プロセスを採用したシステムLSI設計基盤「CB-90」の発売について
〜90ナノメートルプロセス「UX6」を採用〜


2002年11月11日

NECエレクトロニクス株式会社


CB-90

NECエレクトロニクス(社長:戸坂馨、本社:神奈川県川崎市)はこのたび、90ナノメ−トル(10億分の1メ−トル:nm)プロセス(ゲ−ト長60nm)を用いたシステムLSI設計基盤の開発を完了し、来年3月から受注を開始することにいたしました。

この設計基盤は、最新鋭の微細プロセス「UX6」を採用し、最適化設計を行うことにより、現行の「CB-130」に比べて約1.9倍(最大1億ゲ−ト)の高集積化と、約20%高速な1GHz以上の高速動作、並びに約40%の低消費電力を実現するものであります。

「CB-90」の主な特長は次の通りであります。
  (1)業界標準に準拠している
    国内民間企業の出資により半導体の基礎研究を目的に設立された企業 「STARC」(注1)と次世代半導体の標準プロセス開発・試作ライン運営を目的として設立された企業「ASPLA」(注2)の基準に準拠している。
これにより当社製IPマクロに加え、市場に流通している多様な他社製IPマクロのプラグインを容易にできる。また、IPマクロの試作や検証を経済的に行える「ASPLA」のサービスも利用し、コストを抑制した開発が実現できる。
  (2)C言語ベ−スの設計環境を提供
    システムLSIの開発手段として注目を集めているC言語ベ−スの設計環境を更に充実させ、C言語ベースの設計情報から、レイアウト情報であるGDS2までの体系的な設計フローを実現する方式「C2G」(シーツージー(C to G))を提供している。これにより、大規模・高性能なシステムLSIの開発期間を大幅に短縮することが可能になる。
  (3) 最適化されたライブラリの提供
    高速動作に適した「CB-90Hライブラリ」、高密度による低価格化が実現できる「CB-90Mライブラリ」、低消費電力が実現できる「CB-90Lライブラリ」という3種類のライブラリを用意しており、ユ−ザ−の望むアプリケ−ションごとに最適なソリュ−ションを提供できる。

NECエレクトロニクスでは、性能確認用のライブラリの提供を本年12月から、受注を平成15年3月から、サンプル出荷を平成15年6月から、量産を平成15年第三四半期から、順次開始する予定であります。なお、CB-90Lライブラリに関しては、平成15年9月から受注を開始し、サンプル出荷と量産は平成16年の開始の予定であります。

近年、携帯電話端末を始めとする各種システムの製品サイクルは一層早まる傾向にあります。また、ブロードバンド通信やモバイル通信の分野では、より大容量で複雑なデータを扱うことが求められております。
このような状況で、これらのシステムを構成するシステムLSIにおいても、短期間で高性能な製品の開発が求められており、その開発・設計には膨大な投資と工数が必要となるため、ユーザーからは、経済的かつ短期間で効率的に開発できる高性能な設計技術を求める声が強まっております。
NECエレクトロニクスでは、平成12年10月に発表したシステムLSI設計基盤「CB-130」の時点から、システムLSIの効率的な提供を実現するためのデバイスソリュ−ションにフォーカスしてまいりましたが、このたび、最新技術を投入した「CB-90」を製品化し、今後、より高機能・高性能な製品の開発を一段と強力にサポートしてまいります。

「CB-90」の詳しい特長、メモリ・IPコアやインタフェ−スのラインナップ及び、主な仕様については別紙をご参照下さい。
以上



(注1) 株式会社 半導体理工学研究センター (STARC)
   Semiconductor Technology Academic Research Center
(注2) 株式会社 先端SoC基盤技術開発(ASPLA)
   Advanced SoC Platform Corporation

<この発表に関するお客さまからの問い合わせ先>

NECエレクトロニクス 半導体テクニカルホットライン

電 話 (044)435-9494(直通)
FAX (044)435-9608
e-mail: info@lsi.nec.co.jp



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