| 平成13年9月28日 |
| エルピーダメモリ株式会社 |
| 日本電気株式会社 |
| 株式会社日立製作所 |
半導体新工場の稼動延期について |
エルピーダメモリ株式会社（本社：東京都中央区、社長：徳山賢二、以下エルピーダ）は、NEC広島敷地内（広島県東広島市）に、300mmウェハ仕様のDRAM専用工場の建設を進めておりますが、現下の未曾有のDRAM市況悪化に加え、米同時多発テロ事件により市況の先行きが不透明なことから、設備導入時期を平成13年12月から平成14年9月に延期することを本日決定いたしました。 今回の稼動延期に対し、日本電気株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長：西垣浩司、以下NEC）と株式会社日立製作所（本社：東京都千代田区、取締役社長：庄山悦彦、以下日立）の両社はNEC広島とHNS(Hitachi Nippon Steel Semiconductor Singapore Pte. Ltd.)からの製品供給を継続いたします。 エルピーダは、NECと日立の共同出資によりDRAM事業を行う合弁会社として平成11年12月に設立されました。NECと日立両社の技術者がエルピーダの開発・デバイスセンター（神奈川県相模原市）に結集し、約450名体制で0.13μmプロセスの最先端DRAMの設計・開発業務を推進した結果、世界に先駆け0.13μmプロセスを採用した256MビットDRAMの開発に成功いたしました。この製品は、従来の0.18μmプロセス製品に比べ面積比50％の世界最小チップを実現しております。 このようにエルピーダにおけるNECと日立両社の事業統合は順調に推移しておりますが、未曽有のDRAM不況に対応するため、今回の稼動延期を決定したものであります。 エルピーダは、開発・生産から販売に至るまでの全ての機能を持つ日本における唯一のDRAM専業会社であり、今後とも顧客との信頼感を一層強化し、世界のDRAM会社に伍した市場のリーディングポジション獲得を目指していきます。 なお、エルピーダおよび新工場の概要は別紙をご参照下さい。 |
以 上 |
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